雙電子槍共蒸鍍膜系統|北京德儀天力科技

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　　DE500CL雙電子槍共蒸鍍膜系統配置兩個電子束蒸發源，可在基片共蒸發沉積金屬、半導體或介質材料，是制備lift-off工藝薄膜和低微材料的理想平臺。

　　1、設備核心名稱
　　DE500CL 雙電子槍共蒸鍍膜系統
　　2、核心配置
　　- 雙電子槍
　　- 高真空或超高真空鍍膜環境
　　- 樣品可高溫加熱、低溫冷卻
　　- 高精度鍍膜速率和膜厚控制
　　- PLC+PC 全自動控制
　　3、可選配置
　　- LOAD LOCK，全自動送樣
　　- 離子束清洗或輔助沉積
　　- RF 等離子體清洗
　　- 多種樣品臺或客制樣品臺（用于制備特殊工藝薄膜）
　　4、主要技術指標
　　- 極限真空度：3E-8Torr
　　- 蒸發速率分辨率：0.01 A/s
　　- 膜厚均勻性：優于+/-3%
　　- 膜厚分辨率：0.1A
　　- 基片尺寸：可選：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
　　5、功能特性
　　- 優質薄膜質量，具備良好的膜厚均勻性和重復性
　　- 可沉積金屬、半導體、介質材料
　　- 可用于沉積單層、多層膜，可共蒸合金膜
　　- 支持 LIFT-OFF 工藝蒸鍍
　　- 可用于低維材料制備
　　6、應用場景
　　用于研發、中試或量產
　　雙電子槍共蒸鍍膜系統是一種**的薄膜沉積技術，主要用于制備高性能的薄膜材料。該系統利用兩臺電子槍同時工作，可以在同一沉積過程中同時蒸發不同的材料，從而實現更復雜的薄膜結構和成分調控。以下是雙電子槍共蒸鍍膜系統的特點、工作原理及其應用領域：
　　1. 系統特點
　　多材料共蒸發：能夠同時或交替蒸發兩種或多種材料，使得薄膜的成分更加復雜，適用于制備合金、復合材料等。
　　高精度控制：通過精確控制每個電子槍的功率和蒸發速率，可以實現對薄膜厚度和組成的高精度調節。
　　高真空環境：通常在高真空環境中進行沉積，以減少氣體污染和提高薄膜質量。
　　靈活性：可以根據需要調整不同材料的沉積比例，適應不同研究和生產需求。
　　2. 工作原理
　　雙電子槍共蒸鍍膜系統的工作原理基于電子束蒸發技術。其主要步驟包括：
　　真空環境建立：首先，通過真空泵將鍍膜腔體抽至高真空狀態，以減少氣體分子對沉積過程的影響。
　　材料加熱：將目標材料放置在電子槍的靶位上，通過聚焦的電子束加熱材料，使其迅速蒸發。
　　共蒸鍍：兩臺電子槍可同時加熱不同材料，蒸發的原子或分子在基材表面沉積形成薄膜。通過調節各個電子槍的功率，可以控制不同材料的沉積速率，實現所需的薄膜組成和結構。