雙電子槍共蒸鍍膜系統(tǒng)|北京德儀天力科技

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　　DE500CL雙電子槍共蒸鍍膜系統(tǒng)配置兩個(gè)電子束蒸發(fā)源，可在基片共蒸發(fā)沉積金屬、半導(dǎo)體或介質(zhì)材料，是制備lift-off工藝薄膜和低微材料的理想平臺(tái)。

　　1、設(shè)備核心名稱
　　DE500CL 雙電子槍共蒸鍍膜系統(tǒng)
　　2、核心配置
　　- 雙電子槍
　　- 高真空或超高真空鍍膜環(huán)境
　　- 樣品可高溫加熱、低溫冷卻
　　- 高精度鍍膜速率和膜厚控制
　　- PLC+PC 全自動(dòng)控制
　　3、可選配置
　　- LOAD LOCK，全自動(dòng)送樣
　　- 離子束清洗或輔助沉積
　　- RF 等離子體清洗
　　- 多種樣品臺(tái)或客制樣品臺(tái)（用于制備特殊工藝薄膜）
　　4、主要技術(shù)指標(biāo)
　　- 極限真空度：3E-8Torr
　　- 蒸發(fā)速率分辨率：0.01 A/s
　　- 膜厚均勻性：優(yōu)于+/-3%
　　- 膜厚分辨率：0.1A
　　- 基片尺寸：可選：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
　　5、功能特性
　　- 優(yōu)質(zhì)薄膜質(zhì)量，具備良好的膜厚均勻性和重復(fù)性
　　- 可沉積金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)材料
　　- 可用于沉積單層、多層膜，可共蒸合金膜
　　- 支持 LIFT-OFF 工藝蒸鍍
　　- 可用于低維材料制備
　　6、應(yīng)用場(chǎng)景
　　用于研發(fā)、中試或量產(chǎn)
　　雙電子槍共蒸鍍膜系統(tǒng)是一種**的薄膜沉積技術(shù)，主要用于制備高性能的薄膜材料。該系統(tǒng)利用兩臺(tái)電子槍同時(shí)工作，可以在同一沉積過(guò)程中同時(shí)蒸發(fā)不同的材料，從而實(shí)現(xiàn)更復(fù)雜的薄膜結(jié)構(gòu)和成分調(diào)控。以下是雙電子槍共蒸鍍膜系統(tǒng)的特點(diǎn)、工作原理及其應(yīng)用領(lǐng)域：
　　1. 系統(tǒng)特點(diǎn)
　　多材料共蒸發(fā)：能夠同時(shí)或交替蒸發(fā)兩種或多種材料，使得薄膜的成分更加復(fù)雜，適用于制備合金、復(fù)合材料等。
　　高精度控制：通過(guò)精確控制每個(gè)電子槍的功率和蒸發(fā)速率，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜厚度和組成的高精度調(diào)節(jié)。
　　高真空環(huán)境：通常在高真空環(huán)境中進(jìn)行沉積，以減少氣體污染和提高薄膜質(zhì)量。
　　靈活性：可以根據(jù)需要調(diào)整不同材料的沉積比例，適應(yīng)不同研究和生產(chǎn)需求。
　　2. 工作原理
　　雙電子槍共蒸鍍膜系統(tǒng)的工作原理基于電子束蒸發(fā)技術(shù)。其主要步驟包括：
　　真空環(huán)境建立：首先，通過(guò)真空泵將鍍膜腔體抽至高真空狀態(tài)，以減少氣體分子對(duì)沉積過(guò)程的影響。
　　材料加熱：將目標(biāo)材料放置在電子槍的靶位上，通過(guò)聚焦的電子束加熱材料，使其迅速蒸發(fā)。
　　共蒸鍍：兩臺(tái)電子槍可同時(shí)加熱不同材料，蒸發(fā)的原子或分子在基材表面沉積形成薄膜。通過(guò)調(diào)節(jié)各個(gè)電子槍的功率，可以控制不同材料的沉積速率，實(shí)現(xiàn)所需的薄膜組成和結(jié)構(gòu)。