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磁控濺射系統|北京德儀

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  • TA的每日心情
    開心
    2025-12-26 11:26

    • 簽到天數: 54 天

    [LV.5]常住居民I

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    樓主
    發表于 2026-4-16 13:22:51|帖子長度：197 | 只看該作者 |倒序瀏覽 |閱讀模式
    • 高真空濺射室環境
    • 多達12個濺射源
    • 濺射距離可調
    • 直流、脈沖直流、射頻電源、HiPIMS電源
    • 樣品可高溫加熱
    • 樣品可低溫冷卻
    • 優質薄膜質量及膜厚均勻性和重復性
    • 高精度鍍膜速率和膜厚控制
    • **薄膜附著力
    • 可選LOAD LOCK，全自動送樣
    • 可選離子束清洗或輔助沉積
    • 可選RF等離子體清洗
    • PLC+PC全自動控制
    • 可沉積金屬、半導體、介質材料.
    • 可用于濺射多層薄膜、共濺合金薄膜
    • 可做反應濺射
    • 用于研發和中試


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