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Mono- and Multi-crystalline wafer and brick lifetime measurement device
根據SEMI標準PV9-1110的非接觸式和無損成像(μPCD / MDP(QSS))、光電導性、電阻率和p/n檢查。
晶圓切割,爐內監控,材料優化等。
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日常壽命測量,質量控制和檢驗
◆產量:>240塊/天或>720片/天
◆測量速度:對于156x156x400mm標準晶錠,<4分鐘
◆生產改善:1mm切割標準為156x156x400mm標準晶錠
◆質量控制:用于過程和材料的質量監控,如單晶硅或多晶硅
◆污染測定:起源于爐和設備的金屬(Fe)
◆可靠性:模塊化和堅固耐用的工業儀器,更高的可靠性和運行時間> 99%
◆可重復性:> 99.5%
◆電阻率:不需要經常校準
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